オクヤマ カツシ   OKUYAMA KATSUSHI
  奥山 克史
   所属   朝日大学  歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学
   朝日大学  大学院 歯学研究科
   職種   教授
言語種別 日本語
発行・発表の年月 2013/10
形態種別 研究論文(大学,研究機関等紀要)
標題 PIXE/PIGE用フッ素標準試料の評価
執筆形態 共著
掲載誌名 若狭湾エネルギー研究センター研究年報(平成24年度)
掲載区分国内
巻・号・頁 15,42-42頁
担当範囲 実験、執筆
著者・共著者 奥山克史,小松久憲,山本洋子,安田啓介,能町正治,菅谷頼仁
概要 PIXE/PIGE装置を用いて,歯質のフッ素分布を検討してきたが,フッ素量が微量な領域での検出性の低下が確認された.そこで,フッ素標準試料の評価を行うため,ハイドロキシアパタイトOH基をFに置換させた標準試料を作製し,フッ素濃度をマイクロPIXE/PIGEで測定すると同時に,微量拡散法とフッ素イオン電極法でも測定,比較した.その結果,低濃度の標準試料では置換率よりも高いフッ素濃度を示した.