ウエノ　キョウヘイ   UENO KYOHEI   上野　恭平    所属   朝日大学  歯学部 口腔構造機能発育学講座 口腔生化学    職種   助教
取得国	国内
出願番号	特願2017‐005155
出願年月日	2017/01/16
特許出願人	石川真二,俵山博匡,奥野拓也,斎藤崇広,近江靖則,上野恭平
特許名	分離膜の製造方法
特許概要	silicalite-1膜のほとんどは、水性ゲルを用いた水熱合成法で製膜される。しかし、合成グルの使用は手順が煩雑であり、経済的でなく、環境負荷が大きいことが問題点としてあげられる。本発明では、水性ゲルを用いない条件下で、高い膜性能を有するsilicditc‐1膜の合成を提供することができる。