シンタニ コウヘイ
SHINTANI KOUHEI
新谷 耕平 所属 朝日大学 歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学 朝日大学 大学院 経営学研究科 職種 講師 |
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発表年月日 | 2014/11/22 |
発表テーマ | 照射条件の違いによるバルク レジンの硬化深度 |
会議名 | 第30回日本歯科人間工学会学術大会 |
単独共同区分 | 共同 |
発表者・共同発表者 | 新谷耕平,小竹宏明,堀田正人 |
概要 | 近年臨床では、バルクレジンやLED照射器など改良が進んでいるが、大臼歯部では光照射器を一定の距離に保つことが難しく、光強度が弱くなる事が危惧される。そこで光強度の異なる光照射器を用いて照射時間と照射距離を変化させ硬化深度を測定した。結果、照射距離の増加とともに光強度は減少。特にバルクレジンは光強度に関係なく、深い硬化深度が得られた。よって、一定の距離に保つのが難しい部位でも充分な硬化深さを得られた。 |