ホッタ　マサト   HOTTA MASATO   堀田　正人    所属   朝日大学  大学 教育職員    職種   教授
発表年月日	2017/11
発表テーマ	反応性スパッタリングでシリカを被覆したジルコニア基材の安定性
会議名	日本バイオマテリアル学会大会（第39回）
単独共同区分	共同
開催地名	東京
概要	反応性スパッタリングでジルコニア基材表面にシリカ薄膜を被覆することで親水性が長期にわたり保持できることを見いだし、形成されたシリカ薄膜の安定性について検討した。その結果、スパッタリング処理前後で変わらず、ジルコニア基材の相変態は見られなかった。O2ガス体積割合が5％でスパッタリング処理を施すと、デシケーター中保管3週間後も接触角は20～30°であり、親水性を示した。3週間後のスパッタ処理したジルコニア基材のXPSスペクトルにC1sピークが見られることから、接触角の増大は大気中の炭化物等の吸着によると考えられた。