オクヤマ　カツシ   OKUYAMA KATSUSHI   奥山　克史    所属   朝日大学  歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学    朝日大学  大学院 歯学研究科    職種   教授
発表年月日	2020/06/12
発表テーマ	フッ化チタン処理における各種イオンの歯質への分布と脱灰抑制効果　—溶液の濃度およびpHによる影響—
会議名	日本歯科保存学会2020年度春季学術大会（第152回）
学会区分	全国学会
発表形式	抄録のみ
単独共同区分	共同
開催地名	誌上開催
発表者・共同発表者	奥山克史，松田康裕，山本洋子，櫻井雅彦，内藤克昭，新谷耕平，斎藤隆史，林美加子，玉置幸道.
概要	根面象牙質を自動pHサイクル装置に４週間供し、サイクルの期間中１週間に１度、様々な濃度およびpHに調製したフッ化チタン溶液に５分間浸漬した。その後フッ素およびチタンの取り込みと歯質脱灰の程度を評価した。その結果、脱灰深さでは同じフッ素濃度のNaFより有意に小さい脱灰深さを認め、フッ素取り込みではNaFとの差は認めないが、pHが小さいほど多いフッ素取り込みであった。このことよりフッ化チタン溶液による脱灰抑制効果が示された。