オクヤマ　カツシ   OKUYAMA KATSUSHI   奥山　克史    所属   朝日大学  歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学    朝日大学  大学院 歯学研究科    職種   教授
発表年月日	2021/04/11
発表テーマ	低濃度フッ化チタン溶液処理における各種イオンの歯質への分布と脱灰抑制効果
会議名	令和３年春期第77回日本歯科理工学会学術講演会
学会区分	全国学会
発表形式	ポスター
単独共同区分	共同
発表者・共同発表者	奥山克史，松田康裕，山本洋子，新谷耕平，駒田裕子，堀口敬司，斉藤隆史，林美加子，玉置幸道
概要	根面象牙質を自動pHサイクル装置に8週間供し、サイクルの期間中１週間に１度、1%以下の様々な濃度に調製したフッ化チタン溶液に5分間浸漬した。サイクル後各種元素の歯質への分布および脱灰深さを評価検討した。その結果1％処理群が他の濃度よりも有意に小さい脱灰深さを示し、フッ素やチタンの取り込みでは0.25%以下では有意に小さい値を示した。低濃度ではフッ化チタン濃度の影響が小さいことが示された。