オクヤマ　カツシ   OKUYAMA KATSUSHI   奥山　克史    所属   朝日大学  歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学    朝日大学  大学院 歯学研究科    職種   教授
発表年月日	2009/06/11
発表テーマ	核反応による齲蝕歯中のフッ素濃度分布の測定
会議名	日本歯科保存学会春期学会(第130回)
学会区分	全国学会
発表形式	口頭（一般）
単独共同区分	共同
発表者・共同発表者	小松久憲,奥山克史,小島健太郎,木地村太基,佐野英彦,山本洋子
概要	3種のグラスアイオノマーセメントを歯に充填し、う蝕発生環境を再現した自動pHサイクリングに5週間供した。その後う蝕部のフッ素濃度分布をマイクロPIGE/PIXEで分析、検討した。その結果、う蝕部での高いフッ素濃度を確認できたが、分布の様子は材料により異なっていた。このことからPIGE/PIXE装置はフッ素の動態を確認でき、今後のフッ化物含有材料の開発に有用な装置となり得ることが示唆された。