オクヤマ　カツシ   OKUYAMA KATSUSHI   奥山　克史    所属   朝日大学  歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学    朝日大学  大学院 歯学研究科    職種   教授
発表年月日	2009/10/08
発表テーマ	核反応による歯質中のフッ素分布測定（VIII）
会議名	第4回高崎量子応用研究シンポジウム
学会区分	研究会・シンポジウム等
発表形式	ポスター
単独共同区分	共同
発表者・共同発表者	小松久憲,奥山克史,木地村太基,山本洋子,能町正治,菅谷頼仁,安田啓介,佐藤隆博,及川将一
概要	フッ化物含有材料がう蝕抑制効果を示すことは知られているが、材料からのフッ素がどのように分布しているのかよく知られていない。フッ化物含有材料であるグラスアイオノマーセメントを歯充填し、う蝕発生環境を再現した自動pHサイクリングに5週間供した後の、エナメル質へのフッ素取り込みをマイクロPIGE/PIXEで評価した。その結果すべての材料でpHサイクリング後に高いフッ素分布を確認できた。