オクヤマ　カツシ   OKUYAMA KATSUSHI   奥山　克史    所属   朝日大学  歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学    朝日大学  大学院 歯学研究科    職種   教授
発表年月日	2010/10/15
発表テーマ	核反応による歯質内のフッ素分布測定(IX)
会議名	第5回高崎量子応用研究シンポジウム
学会区分	研究会・シンポジウム等
発表形式	ポスター
単独共同区分	共同
発表者・共同発表者	小松久憲,松田康裕,奥山克史,木地村太基,山本洋子,能町正治,菅谷頼仁,安田啓介,佐藤隆博,江夏昌志
概要	う蝕抑制にフッ素の効果は知られているが、ストロンチウムの存在が歯質の再石灰化が促進されると言われている。本研究ではストロンチウムを含むフッ化物含有歯科材料を歯質に適用し、う蝕リスクの異なる2つのpHサイクリングに試料を供し、ストロンチウムの歯質への取り込みをマイクロPIGE/PIXEで測定、評価した。その結果、う蝕リスクの高い乗境において表層から100μmまでの層で高い取り込みを示した。