オクヤマ　カツシ   OKUYAMA KATSUSHI   奥山　克史    所属   朝日大学  歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学    朝日大学  大学院 歯学研究科    職種   教授
発表年月日	2011/10/13
発表テーマ	核反応による歯質内のフッ素分布測定(X)
会議名	第6国高崎量子応用研究シンポジウム
学会区分	研究会・シンポジウム等
発表形式	ポスター
単独共同区分	共同
発表者・共同発表者	小松久憲,小島健太郎,船戸良基,松田康裕,奥山克史,山本洋子,能町正治,菅谷頼仁,安田啓介,佐藤隆博,江夏昌志
概要	各種フッ化物含有材料を歯に充填し、1年6ヶ月保存後う蝕発生環境を再現したpHサイクル負荷を加えた試料の歯質へのフッ素浸透(分布)をマイクロPIGE/PIXEで測定し、1日保存した群とその値を比較した。その結果、う蝕表層付近では一部の試料で1日保存群に高いフッ素濃度を示したが、150μmの深さでは期間によるフッ素濃度の差は認めなかった。