オクヤマ　カツシ   OKUYAMA KATSUSHI   奥山　克史    所属   朝日大学  歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学    朝日大学  大学院 歯学研究科    職種   教授
発表年月日	2018/04/15
発表テーマ	歯科用埋没材成分を基材としたケイ酸カルシウム合成法の検討
会議名	第71回日本歯科理工学会学術講演会
学会区分	全国学会
発表形式	ポスター
単独共同区分	共同
発表者・共同発表者	玉置幸道，奥山克史，駒田裕子，西川元典，堀口敬司，川木晴美
概要	MTAセメントの主成分であるケイ酸カルシウムを埋没材成分のクリストバライト、石英を利用して合成が可能か検討を行った。二酸化ケイ素と硫酸カルシウム（石膏）のモル比が１：１となるように材料を秤量し、混和後電気炉で焼成を行った。その結果、1200℃以下の温度で石膏が分解されることが示唆されたが、含まれるシリカの種類により分解や得られる合成物に差が認められた。