シンタニ　コウヘイ   SHINTANI KOUHEI   新谷　耕平    所属   朝日大学  歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学    朝日大学  大学院 経営学研究科    職種   講師
発表年月日	2016/08/24
発表テーマ	真空紫外光(VUV)照射後に各種条件下で保存した親水化チ タン基板の特性解析
会議名	第58回歯科基礎医学会学術大会
単独共同区分	共同
発表者・共同発表者	新谷耕平,川木晴美,石榑大嗣,巽勇介,梅村直己,神谷真子,高山英次,堀田正人,土井豊,近藤信夫
概要	真空紫外光(VUV,1=172 nm)をチタン基板に照射し、各種保存液中に保存した後のチタン基盤の親水性の変化とチタン基板上での細胞動態について解析した。その結果、リン酸緩衝液(PBS)中で保存したチタン基板の親水性が照射直後と同等に保たれ、細胞培養系評価でもヒト骨髄由来幹細胞(hBMSC)の接着と増殖、骨芽細胞分化で他の条件よりも優れていることを示した。