シンタニ　コウヘイ   SHINTANI KOUHEI   新谷　耕平    所属   朝日大学  歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学    朝日大学  大学院 経営学研究科    職種   講師
発表年月日	2018/10/06
発表テーマ	低級アルコールを用いたインプラント材料表面への水酸基導入の試み
会議名	歯科理工学会　 　 　秋季第72回学術大会
発表形式	ポスター
単独共同区分	共同
発表者・共同発表者	新谷耕平，川木晴美，永原桜子，堀口敬司，西川元典，近藤雄三，奥玉克史，田邊俊一郎，近藤信夫，永原國央，玉置幸道
概要	オッセオインテグレーション獲得促進にUVがもつエネルギーの関与が考えられたので表面水酸基を導入するために低級アルコールや蒸留水（DW）をインプラント材料表面に滴下後UV照射し，親水性の変化とXPSによる表面解析を行った．照射時間の増加とともに親水性は向上しXPSによる表面解析ではアルコールやDWを滴下後UV照射を行った群で532～533 eV 付近にO1sのピーク分離が見られた．