シンタニ　コウヘイ   SHINTANI KOUHEI   新谷　耕平    所属   朝日大学  歯学部 口腔機能修復学講座 歯科理工学    朝日大学  大学院 経営学研究科    職種   講師
発表年月日	2015/06/25
発表テーマ	照射条件の違いによるバルク レジンの硬化深度
会議名	第142回日本歯科保存学会春季学術大会
単独共同区分	共同
発表者・共同発表者	新谷耕平,下出輝,田村大輔,小竹宏朋,堀田正人
概要	近年バルクレジンやLED照射器など改良が進む中、大臼歯部では光照射器を一定の距離に保つのが難しく、光強度が弱くなる事が危惧されるので光強度の異なる光照射器を用いて照射時間と照射距離および型枠を変化させ硬化深度を測定した。結果、硬化深度は距離の増加により減少。LED照射器やバルクレジンを使用で深い硬化深度が得られた。よって一定の距離に保つのが難しい部位でも充分な硬化深さが得られることが示唆された。